前言
国产光刻机重大突破！芯上微装AST6200正式量产交付，350nm高分辨率、80nm套刻精度，全栈自研软件系统实现100%自主可控。它如何打破海外垄断，为功率器件、射频芯片等国产化铺路？
— 由AI分析文章生成，仅供参考。
上海芯上微装科技股份有限公司刚刚宣布，其自主研发的首台350nm步进光刻机（AST6200）已完成全部调试验收，正式发往客户现场。
这一里程碑事件，标志着我国在高端半导体光刻设备领域再下一城，突破了又一项“卡脖子”技术。
据悉，AST6200是芯上微装完全自主打造的步进式光刻设备，专门针对功率器件、射频芯片、光电子及Micro LED等前沿领域定制开发。该设备搭载高性能投影镜头，配合多重照明模式与可变光瞳技术，实现了350nm高分辨率成像，完全满足当前主流化合物半导体芯片的制造需求。
在精度方面更是表现亮眼：配备的高精度对准系统可实现正面80nm、背面500nm的套刻精度，确保多层图形精准对齐，大幅提升产品良率。
更值得骄傲的是，AST6200搭载了芯上微装自主研发的全栈式软件控制系统，从底层驱动到上层管理实现了100%自主可控，彻底摆脱对外依赖。
资料显示，芯上微装成立于2025年2月，虽然是一家年轻的企业，但已聚焦高端半导体装备领域，其产品线覆盖晶圆级先进封装光刻机、激光退火设备和前道晶圆缺陷检测设备等关键设备。这次AST6200的成功交付，无疑为中国半导体产业链自主化注入了强心剂。